各类化学物理实验室|济南天方净化|山东净化工程
更新时间:2013-04-14 09:01:07
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详细介绍
天方净化工艺布置要求如下:
一、工艺布置合理、紧凑。洁净室或洁净区内只布置必要的工艺设备以及有
空气洁净度等级要求的工序和工作室;
二、在满足生产工艺要求的前提下,空气洁净度高的洁净室或洁净区宜靠近空
气调节机房;空气洁净度等级相同的工序和工作室宜集中布置;靠近洁净区入口处宜布置空气洁净度等级较低的工作室;
三、洁净室内要求空气洁净度高的工序应布置在上风侧易产生污染的工艺设
备应布置在靠近回风口位置;
四、应考虑大型设备安装和维修的运输路线,并预留设备安装口和检修口;
五、应设置单独的物料入口,物料传递路线应Zui短,物料进入洁净区之前必
须进行清洁处理。
第3.2.2条 洁净厂房内宜少设隔间,但在下列情况下可予以分隔:
一、按生产的火灾危险性分类,甲、乙类与非甲、乙类相邻的生产区段之间,
或有防火分隔要求者; 二、生产过程中产生较强噪声或散发较多热量、尘粒和有害气体,且不能采
取局部措施加以控制者;
三、生产联系少,并经常不同时使用的两个生产区段之间。
第3.2.3条 洁净厂房的平面和空间设计,宜将洁净区、人员净化、物料
净化和其他辅助用房进行分区布置。同时应考虑生产操作、工艺设备安装和维修、
气流组织型式、管线布置以及净化空气调节系统等各种技术设施的综合协调效果。
第3.2.4条 洁净厂房设计必须合理确定各种管线的平面位置和坚向标高。
第3.2.5条 洁净厂房内各种固定技术设施(如送风口、照明器、回风口、 各种管线等)的布置,宜首先考虑净化空气调节系统的要求。
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